Двухосевой гониометр Модель 250 используется для крепления кристалла в процессе определения кристаллографической ориентации или по
методу Лауэ в геометрии обратного отражения, или оптическими методами (см. устройство для оптической ориентации Модель 210). Кристалл может поворачиваться
на 360о в плоскости, которая может наклоняться на угол в диапазоне +/- 30о по отношению к базовой поверхности
гониометра. Верньер с ценой деления 0.2о осуществляет поворот в диапазоне 360о, и верньер с ценой деления 0.1о
осуществляет наклон в диапазоне +/-30о. Гониометр сочетает надежную конструкцию, выполненную из нержавеющей стали, с легкостью
и точностью юстировки. После ориентации гониометр Модель 250 может быть перенесен и установлен для последующей обработки кристалла
на следующем оборудовании:| Штатив Модель 25002 | |
 |
Штатив Модель 25002 предназначен для установки на рельсе 2.19" или 1.99" шириной. Он имеет горизонтальную регулировку в направлении,
перпендикулярном направлению рентгеновского или оптического пучка и фиксированную высоту 3.625" от рельса до центра установленного
гониометра Модель 250. Габаритные размеры: 2.75"W x 3"D x 4.5"H. |
| Штатив Модель 25005 | |
 |
Штатив Модель 25005 идентичен штативу Модель 25002, но имеет фиксированную высоту 4" от рельса до центра
установленного гониометра Модель 250. Габаритные размеры: 2.75"W x 3"D x 5"H. |
Притирочное и полирующее приспособление Модель 25010 разработано специально для гониометра Модель 250 и предназначено для
ручной или машинной притирки/полировки ориентированных кристаллов. Гониометр Модель 250 может быть перенесен и установлен
в приспособлении Модель 25010 для притирки/полировки непосредственно после ориентации кристалла в рентгеновской или
оптической установке. Гониометр может также сначала быть установлен для распила образца, а потом перенесен в приспособление
Модель 25010. В Модели 25010 применена балансировка центрального плунжера для компенсации веса гониометра и центрального плунжера.
Точность полировки ориентированных кристаллов составляет 0.25о.
Трехосевой гониометр Модель 260 изготовлен из твердого анодированного алюминия и используется для крепления кристалла в
процессе определения кристаллографической ориентации или по методу Лауэ в геометрии обратного отражения, или оптическими
методами (см. устройство для оптической ориентации Модель 210). Модель 260 может быть непосредствено установлена на рельсе
рентгеновской или оптической установки шириной 2.19" или уже. Гониометр обеспечивает поворот установленного кристалла на
+/-25о по двум осям и полный оборот на 360о по третьей оси. Установленный в гониометр кристалл диаметром 2", закрепленный на
установочном блоке высотой 1/2", находится на высоте 3.625" от рельса. Для небольших кристаллов высота Модели 260 может быть
увеличена на 1" с помощью дополнительного адаптера P/N 01-02531. |
Модель 260 может быть установлена на проволочной пиле Модель 850 для дальнейшей обработки ориентированного образца. Габаритные размеры гониометра: 3.5"W x 3.5"D x 3.25"H. |
Модель 265 - увеличенная версия Модели 260, установленная на квадратном 7" х 7" основании. Она может быть адаптирована
для широкого круга различных применений. Гониометр обеспечивает поворот установленного кристалла на +/-25о
по двум осям и полный оборот на 360о по третьей оси. Модель 265 идеальна для ориентации и резки больших кристаллов
и может применяться совместно с существующим оборудованием.
Модель 65005 - двухосевой гониометр для ориентировки и резки монокристаллов. С помощью штатива Модель 65011 он
может быть установлен на рельсе рентгеновской установки для ориентации кристалла, а затем перенесен на пилу
Модель 650 для резки. Образец, установленный на гониометре, поворачивается вокруг вертикальной оси на 360о
с точностью 0.2о и вокруг горизонтальной оси на +/-50о с точностью 0.2о.| Штатив Модель 65011 | |
 |
Штатив Модель 65011 предназначен для установки двухосевого гониометра Модели 65005 на рельсе
2.19" или 1.99" шириной. Габаритные размеры: 3.25"W x 3"D x 4.25"H |
Модель 170 была разработана совместно с Ливерморской Национальной Лабораторией (Livermore National Laboratory) и Институтом Макса Планка
(Max Planck Institute) для прецизионной ориентации и притирки/полировки монокристаллов. Конструкция основана на работе Mader et al (MPI)
и обеспечивает возможность приложения контролируемого усилия к деликатным образцам. Модель 170 может быть установлена
непосредственно на рельсе рентгеновской установки для анализа по методу обратного отражения Лауэ. Точность позиционирования
0.1о может быть достигнута при использовании Модели 170 совместно с дополнительным штативом при дублированной юстировке с
поворотом на 180о. |
Штатив (высота 3.625") для Модели 170. |
Устройство для оптической ориентации Модель 210 применяется для определения ориентации кристалла или для
юстировки кристалла для обработки (резки или полировки) определенных ориентированных поверхностей. Используется
лазерный луч, отражающийся от сколотой или предварительно протравленной кристаллической поверхности назад на
мишень, перпендикулярную лучу. Оптическая ориентация является альтернативой более опасным и дорогим рентгеновским
методикам.
VECOR 101 Duranzo Aisle, Irvine, CA92606, USA
Phone: +1-949-394-4466 * Fax: +1-949-451-6813 * E-mail: info@vecorus.com
